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基于氮化镓器件的集成化技术详解

时间:2023-08-03 09:23来源:未知 作者:admin 点击:
通过凹槽切断栅极下方的2DEG,使得器件在零栅压下为关断状态。当正栅压增至大于 阈值电压 时,将在栅界面处形成 电子 积累层以作为器件的导电沟道,器件呈导通状态。 编辑:黄飞  

通过凹槽切断栅极下方的2DEG,使得器件在零栅压下为关断状态。当正栅压增至大于阈值电压时,将在栅界面处形成电子积累层以作为器件的导电沟道,器件呈导通状态。

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编辑:黄飞

 

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